抗菌性低刺激化粧料

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川篤子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-022206
公開番号（公開出願番号）：特開平10-203955
出願日： 1997年01月20日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：

【要約】【目的】優れた抗菌作用を有し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけではなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【構成】シナノキ属植物、特にフユボダイジュ(Tilia cordata Mill.,Tiliaulmifolia Scop.,Tilia parvifolia Ehrh.),ナツボダイジュ(Tilia platyphyllos Scop.,Tilia grandifolia Ehrh.),セイヨウシナノキ( Tilia europaeaL.)から選ばれる1種又は2種以上の植物抽出物と、多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選ばれる1種又は2種以上を併用し含有させて成る。

請求項（抜粋）：