特許
J-GLOBAL ID：200903070182041355

エンボス版の製造方法

発明者：
千原 憲四郎

千原 憲四郎 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-236056
公開番号（公開出願番号）：特開平8-072141
出願日： 1994年09月06日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：
【要約】【目的】 頂部が平滑である凸部ないしは頂部に万線状微細凹凸が形成された凸部と、サンドブラストによる砂目状凹凸が形成された凹部とを備えた構成からなるエンボス版の製造方法である。【構成】 エンボス版の凸部を構成する領域にクロムレジスト層を形成してエツチングすることにより金属基材に凸部を形成した後に、クロムレジスト層が存在する状態でエツチングされた表面にサンドブラストを施すことにより、クロムレジスト層のない部分の凹部の表面にのみサンドブラストによる砂目状凹凸を形成した構成のエンボス版の製造方法である。
請求項（抜粋）：
金属基材の表面に感光膜を形成し、凸部に対応する領域が黒色で他の領域が透明であるマスクフイルムを使用して焼き付け現像を行い感光膜レジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の前記感光膜レジスト層が形成さていない領域にクロムメツキを施しクロムレジスト層を形成する工程と、前記金属基材の表面の前記感光膜レジスト層を除去する工程と、前記クロムレジスト層が形成された前記金属基材を塩化第2鉄によりエツチングして凹部を形成する工程と、エツチングされた前記金属基材の表面全面にサンドブラストを施して凹部の内面に砂目状凹凸を形成する工程と、前記金属基材の表面に残存する前記クロムレジスト層を除去する工程とからなることを特徴とする、頂部が平滑な凸部と内面に砂目状凹凸が形成された凹部とを備えた構成からなるエンボス版の製造方法。
IPC (2件)：
B29C 59/02 ,  B29C 33/58
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM