薄膜磁気ヘッドの製造方法及び薄膜磁気ヘッドとそれを搭載した磁気ディスク装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-377989
公開番号（公開出願番号）：特開2002-183909
出願日： 2000年12月07日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】強い記録磁界を発生させる記録ヘッドを実現するための磁極の材料、構造及び製法を提供する。【解決手段】Co、Ni及びFeを含有するスパッタ磁性膜によるめっき下地膜3上に、Co、Ni及びFeを含有するめっき磁性膜4を形成した磁極層を用いた薄膜磁気ヘッドとする。また、40≦Co≦70wt%、10≦Ni≦25wt%、10≦Fe≦30wt%であり、かつ、X線回折におけるピーク強度比がI(200)/I(111)≧0.5、かつI(110)/I(111)≧1であるCoNiFe磁性膜を磁極層に用いた薄膜磁気ヘッドとする。(面心立方晶fcc(111)面、fcc(200)面、及び体心立方晶bcc(110)面のピーク強度をそれぞれI(111),I(200),I(110)とする)。

請求項（抜粋）：

Co、Ni及びFeを含有する磁性膜をスパッタ法により形成し、該磁性膜上にCo、Ni及びFeを含有する磁性膜を電気めっき法により形成して磁極層を作成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

IPC (6件)：

G11B 5/31 , C23C 14/14 , C23C 14/34 , C25D 3/56 , C25D 7/00 , H01F 41/18

FI (6件)：

G11B 5/31 C , C23C 14/14 F , C23C 14/34 P , C25D 3/56 B , C25D 7/00 K , H01F 41/18

Fターム (32件)：

4K023AB19 , 4K023CB07 , 4K023CB12 , 4K023CB21 , 4K023DA02 , 4K024AA15 , 4K024AB02 , 4K024BB14 , 4K024BC10 , 4K024CA03 , 4K024CA04 , 4K024CA06 , 4K024GA16 , 4K029BA24 , 4K029BB02 , 4K029BC06 , 4K029BD11 , 4K029CA05 , 4K029DC04 , 5D033BA01 , 5D033BA03 , 5D033BA07 , 5D033BA08 , 5D033DA03 , 5D033DA04 , 5D033DA31 , 5E049AA04 , 5E049AA09 , 5E049AC05 , 5E049BA12 , 5E049GC01 , 5E049LC01

引用特許：

審査官引用 (8件)

薄膜磁気ヘッド及び磁気記録ヘッド並びに磁気ディスク装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-341359 出願人：株式会社日立製作所
磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-360118 出願人：日立金属株式会社
薄膜磁気ヘッド及び記録再生分離型磁気ヘッドとそれを用いた磁気記憶再生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-342521 出願人：株式会社日立製作所

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