特許
J-GLOBAL ID：200903070344900470

不透明石英ガラスの製造方法、該方法に適したSiO2粒子および不透明石英ガラス物品

発明者：
ヴェルデッカー、ヴァルトラウト

ヴェルデッカー、ヴァルトラウト について

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ファビアン、ハインツ

ファビアン、ハインツ について

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ゲルティッヒ、ウード

ゲルティッヒ、ウード について

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ライスト、ヨハン

ライスト、ヨハン について

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ゲーベル、ロルフ

ゲーベル、ロルフ について


出願人/特許権者：
ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト

ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフト について

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信越石英株式会社

信越石英株式会社 について


代理人 (7件)： 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  池谷 豊 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順 ,  白石 泰三
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-546594
公開番号（公開出願番号）：特表2004-500299
出願日： 2000年12月14日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
本発明は、不透明石英ガラスの既知の製造方法において、合成SiO2顆粒からブランクを形成し、ガラス化温度で加熱して不透明石英ガラス体を製造することに関する。これに基づいて均一な細孔分布、高い密度、高い粘度および低い失透性を有する純粋な石英ガラスの製造方法を提供するために、本発明によれば、使用すべきSiO2顆粒は、SiO2一次粒子の少なくとも部分的に多孔質の集塊からなり、1.5m2/gから40m2/g範囲のBET比表面積および少なくとも0.8g/cm3の見掛け密度を有するSiO2顆粒(21;31)である。本発明による方法を実施するのに適しているSiO2顆粒(21;31)は、SiO2一次粒子の少なくとも部分的に多孔質の集塊から形成される点、および1.5m2/gから40m2/gの範囲のBET比表面積および少なくとも0.6g/cm3の見掛け密度を有する点で特徴付けられる。
請求項（抜粋）：
合成SiO2顆粒(granules)からブランク(blank)を成形し、該成形品をガラス化温度で加熱して石英ガラス物品を作る不透明な石英ガラスの製造方法において、使用するSiO2顆粒が、少なくとも部分的に多孔質のSiO2一次粒子の集塊からなり、1.5〜40m2/gのBET比表面積および少なくとも0.8g/cm3の見掛け密度を有するSiO2顆粒(21;31)であることを特徴とする不透明石英ガラスの製造方法。
IPC (4件)：
C03B20/00 ,  C01B33/12 ,  C03B19/00 ,  C03B19/09
FI (5件)：
C03B20/00 A ,  C03B20/00 K ,  C01B33/12 Z ,  C03B19/00 B ,  C03B19/09
Fターム (14件)：
4G014AH08 ,  4G014AH23 ,  4G072AA25 ,  4G072AA36 ,  4G072AA38 ,  4G072BB05 ,  4G072BB15 ,  4G072GG01 ,  4G072NN25 ,  4G072TT01 ,  4G072TT04 ,  4G072TT05 ,  4G072TT06 ,  4G072UU21
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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