特許

J-GLOBAL ID：200903070411349504

塗布装置

発明者： 増市 幹雄 ,  高村 幸宏 ,  森脇 三造
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 梁瀬 右司 ,  振角 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-212154
公開番号（公開出願番号）：特開2004-050080
出願日： 2002年07月22日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】低コストで、しかも塗布領域に液体を正確に塗布することができる塗布装置を提供する。【解決手段】マスク4に形成された開口が基板1上の溝(塗布領域)に対向配置される。そして、その配置状態でノズル5から有機EL材料がマスク4に向けて吐出され、そのマスク4の開口を介して基板1に供給される。このため、基板1上のうち該開口に対向する溝に選択的に有機EL材料が塗布されるとともに、その溝以外の領域に有機EL材料が塗布されるのを確実に防止することができる。すなわち、溝(塗布領域)に有機EL材料が正確に塗布される。また、マスク4に付着する有機EL材料については、マスク洗浄ユニット7が洗浄除去するため、マスク4を繰り返して使用することが可能となってランニングコストを低減させることができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板上の塗布領域に液体を塗布する塗布装置において、 前記塗布領域に対応する開口を有し、該開口が前記塗布領域に対向するように配置されるマスクと、 前記マスクに向けて前記液体を供給することで前記マスクの開口を介して前記塗布領域に前記液体を選択的に塗布する液体供給手段と、 前記マスクに付着した前記液体を除去する液体除去手段と を備えたことを特徴とする塗布装置。

IPC (7件)：

B05C5/00 ,  B05B15/04 ,  B05C11/10 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (7件)：

B05C5/00 101 ,  B05B15/04 102 ,  B05C11/10 ,  G03F7/16 501 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H01L21/30 564Z

Fターム (31件)：

2H025AB16 ,  2H025EA04 ,  2H025FA15 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096CA12 ,  2H096CA13 ,  2H096GA21 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D073BB03 ,  4D073CB20 ,  4D073DB03 ,  4D073DB13 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AA06 ,  4F041AB02 ,  4F041BA34 ,  4F041BA59 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA07 ,  4F042CB11 ,  4F042CB18 ,  4F042CC06 ,  4F042CC10 ,  5F046JA01 ,  5F046JA02 ,  5F046JA27

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭47-034728
  
• 粉粒体の散布方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-029033   出願人：花王株式会社
• 塗布膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-382632   出願人：東京エレクトロン株式会社