特許
J-GLOBAL ID:200903033437830585
塗布膜形成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 俊夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-382632
公開番号(公開出願番号):特開2001-232269
出願日: 2000年12月15日
公開日(公表日): 2001年08月28日
要約:
【要約】【課題】 基板に対し均一な膜厚の塗布膜を形成する装置において、前記基板の塗布膜形成領域以外の部分を覆うマスク部材を設け、当該マスク部材の洗浄を容易にし、且つ装置の大型化を抑えた構成とすること。【解決手段】 Y方向へ移動自在に構成された基板保持部によりウエハを保持し、該ウエハと吐出孔が対向するように塗布液ノズルを設ける。塗布液ノズルはウエハを跨ぐようにX方向を往復移動できる構成とし、該移動領域の両端にはウエハの塗布膜形成領域以外の部分を覆い、前記領域の幅に応じて進退する一組のマスク部材を設ける。対向する各マスク部材の後方には該マスク部材を収納可能なケース体が設けられており、ケース体にはマスク部材に付着した塗布液を溶解させるための溶剤を供給する溶剤ノズルが設けられており、マスク部材及びケース体は溶剤などを吸引するための吸引機構を有している。
請求項(抜粋):
基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された基板と対向して設けられ、当該基板に塗布液を吐出する塗布液ノズルと、この塗布液ノズルから塗布液を基板の表面に吐出しながら前記塗布液ノズルを基板の表面に沿って基板に対して相対的に移動させる駆動機構と、前記基板の塗布膜形成領域以外の部分を覆い、塗布液ノズルからの塗布液を受けるマスク部材を備えたマスクユニットと、このマスクユニットに設けられ、前記マスク部材に付着した塗布膜を洗浄する洗浄手段と、を有することを特徴とする塗布膜形成装置。
IPC (5件):
B05C 9/12
, B05C 5/00 101
, B05C 11/10
, G03F 7/16 502
, H01L 21/027
FI (5件):
B05C 9/12
, B05C 5/00 101
, B05C 11/10
, G03F 7/16 502
, H01L 21/30 564 Z
引用特許:
審査官引用 (6件)
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ノズル塗布方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-244436
出願人:大日本印刷株式会社
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特開平2-265666
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自動塗装装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-265572
出願人:株式会社キヨーリツ・テツク
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