特許
J-GLOBAL ID：200903070489800067
表面処理方法及びそれに用いるシリコン処理液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 陽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-324238
公開番号（公開出願番号）：特開2005-007379
出願日： 2003年09月17日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：
【課題】基材の種類によらず基材との密着性に優れ、クラックの少ない皮膜を形成することが可能であり、処理が容易で且つ処理コストが低廉な表面処理方法及びそのための表面処理液を提供する。【解決手段】混合工程として3-アミノプロピルトリメトキシシランのアセトン溶液(1容量%)を用意し、3日間静置する。次に、処理液コーティング工程として、PETフィルムをアセトン溶液へ静かに浸漬し、さらに引き上げて乾燥する工程を繰り返し行う。最後に皮膜形成工程として、150°Cで10分間の加熱を行う。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
アミノ基を有し加水分解によって縮重合可能な含アミノ有機シリコン化合物と、該アミノ基と反応してイミン化合物を生成するカルボニル化合物とを混合してシリコン処理液とする混合工程と、
該シリコン処理液を基材の表面にコーティングする処理液コーティング工程と、
該基材の表面にコーティングされた該シリコン処理液を乾燥させることにより、該基材上に皮膜を形成させる皮膜形成工程とを備えることを特徴とする表面処理方法。
IPC (5件)：
B05D7/24
, C23C18/04
, C23C18/06
, C23C18/14
, G02B1/10
B05D7/24 302Y
, B05D7/24 302B
, C23C18/04
, C23C18/06
, C23C18/14
, G02B1/10 Z
2K009BB01
, 2K009CC42
, 2K009CC45
, 2K009DD02
, 2K009DD05
, 2K009DD06
, 2K009EE00
, 3K007AB15
, 3K007AB18
, 3K007BB01
, 3K007CA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4D075AE16
, 4D075BB16X
, 4D075BB24Y
, 4D075BB24Z
, 4D075BB40Z
, 4D075BB44Z
, 4D075BB46Z
, 4D075BB87Z
, 4D075CA13
, 4D075CA37
, 4D075CA42
, 4D075CB11
, 4D075DA04
, 4D075DA06
, 4D075DB36
, 4D075DB48
, 4D075DB53
, 4D075DC19
, 4D075DC21
, 4D075DC24
, 4D075DC36
, 4D075EA07
, 4D075EB02
, 4D075EB43
, 4D075EB47
, 4D075EC07
, 4K022AA05
, 4K022AA11
, 4K022AA32
, 4K022AA41
, 4K022AA42
, 4K022BA08
, 4K022BA20
, 4K022BA33
, 4K022BA35
, 4K022CA22
, 4K022DA06
, 4K022DB12
, 4K022EA01
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (7件)
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