特許
J-GLOBAL ID：200903062542336626

金属パターン用被膜形成用ポリシラン組成物及び金属パターン形成方法

発明者：
福島 基夫

福島 基夫 について

, 
伊藤 邦雄

伊藤 邦雄 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-300894
公開番号（公開出願番号）：特開2000-129211
出願日： 1998年10月22日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：
【要約】【解決手段】 ポリシランとカーボンファンクショナルシランとこれらを溶解する溶媒とを含有することを特徴とする金属パターン用被膜形成用ポリシラン組成物。【効果】 本発明によれば、印章法、インクジェット法、平板印刷法という露光、現像工程のいらない安価で簡便な工程により、密着よく金属パターンを形成することができる。
請求項（抜粋）：
ポリシランとカーボンファンクショナルシランとこれらを溶解する溶媒とを含有することを特徴とする金属パターン用被膜形成用ポリシラン組成物。
IPC (4件)：
C09D183/14 ,  C09D 7/12 ,  C23C 18/31 ,  H05K 3/18
FI (4件)：
C09D183/14 ,  C09D 7/12 Z ,  C23C 18/31 Z ,  H05K 3/18 B
Fターム (29件)：
4J038DL011 ,  4J038PA07 ,  4J038PC02 ,  4K022AA02 ,  4K022AA04 ,  4K022AA05 ,  4K022AA13 ,  4K022AA41 ,  4K022AA42 ,  4K022AA43 ,  4K022BA03 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA18 ,  4K022CA06 ,  4K022CA08 ,  4K022CA21 ,  4K022DA01 ,  4K022EA01 ,  5E343AA16 ,  5E343AA17 ,  5E343AA18 ,  5E343AA22 ,  5E343AA23 ,  5E343AA26 ,  5E343CC71 ,  5E343CC73 ,  5E343DD33 ,  5E343GG20
引用特許：
審査官引用 (34件)
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