特許
J-GLOBAL ID:200903070574929095

光触媒含有組成物、濡れ性変化皮膜、及び、濡れ性変化樹脂組成物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-097055
公開番号(公開出願番号):特開2001-174624
出願日: 2000年03月31日
公開日(公表日): 2001年06月29日
要約:
【要約】【課題】 基板の表面を被覆し且つ光触媒反応によって親水化し、露光部と非露光部の間にパターン形成用材料に対する濡れ性の差を大きくとることができると共に、感度が高くて露光時間を短縮できる濡れ性変化皮膜、当該皮膜を形成するための塗工材料を提供する。特に、カラーフィルタ-の製造に用いる。【解決手段】 濡れ性変化皮膜中に設けられている濡れ性変化層は、光触媒反応により高親水性になる。まだ親水化されていない当該濡れ性変化層の表面に濡れ標準試薬の液滴を接触させた時に、表面張力が20〜50mN/mの範囲の全部又は一部において30度以上の接触角(θ)を示し、且つ、式「X=(cosθ(A)-cosθ(B))÷(A-B)」で表される、前記接触角のコサイン値(cosθ)の平均減少率(X)の絶対値(|X|)は、表面張力が20〜50mN/mの範囲において、0.02以下である。
請求項(抜粋):
光触媒反応により親水化する濡れ性変化皮膜を形成するための光触媒含有組成物であって、当該光触媒含有組成物は少なくともバインダーと光触媒とを含有し、当該光触媒含有組成物を用いて形成した、まだ親水化されていない皮膜の表面に、ホルムアミドとエチレングリコールモノエチルエーテルを混合してなる濡れ標準試薬の液滴を接触させて接触角(θ)を測定し、ジスマンプロットのグラフを作成した時に、当該濡れ標準試薬の実測された又はジスマンプロットにより決定された接触角(θ)は、表面張力が20〜50mN/mの範囲の全部又は一部において30度以上を示し、且つ、下記式X=(cosθ(A)-cosθ(B))÷(A-B)(式中、Xはcosθの平均減少率、Aは平均減少率を求める範囲の始点における表面張力(mN/m)、Bは平均減少率を求める範囲の終点における表面張力(mN/m)、θ(A)は始点の表面張力Aにおける接触角、θ(B)は終点の表面張力Bにおける接触角をそれぞれ示す。)で表される、前記接触角(θ)から導かれるコサイン値(cosθ)の平均減少率(X)の絶対値(|X|)は、前記表面張力が20〜50mN/mの範囲において、0.02以下であることを特徴とする、光触媒含有組成物。
IPC (7件):
G02B 5/20 101 ,  B01J 35/02 ,  C09D 5/00 ,  C09D183/04 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/075 521
FI (7件):
G02B 5/20 101 ,  B01J 35/02 J ,  C09D 5/00 Z ,  C09D183/04 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/075 521
Fターム (46件):
2H025AA00 ,  2H025AB13 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH03 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB33 ,  2H025FA03 ,  2H048BA11 ,  2H048BA45 ,  2H048BA47 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  4G069AA09 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA21A ,  4G069BA21B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC35A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069BE32A ,  4G069BE32B ,  4G069BE34A ,  4G069BE34B ,  4G069CD10 ,  4G069DA06 ,  4G069ED02 ,  4G069FC05 ,  4J038DL031 ,  4J038DL071 ,  4J038HA166 ,  4J038NA06 ,  4J038PB08 ,  4J038PB09 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08
引用特許:
出願人引用 (3件)

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