特許
J-GLOBAL ID:200903070586905345

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  赤堀 龍吾
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-141895
公開番号(公開出願番号):特開2007-004138
出願日: 2006年05月22日
公開日(公表日): 2007年01月11日
要約:
【課題】直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)バインダポリマーと、(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、(C1)下記一般式(1)で表される化合物とを含有する感光性樹脂組成物を提供する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)バインダポリマーと、 (B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、 (C1)下記一般式(1)で表される化合物と、 を含有する感光性樹脂組成物。
IPC (2件):
G03F 7/031 ,  H05K 3/00
FI (2件):
G03F7/031 ,  H05K3/00 F
Fターム (15件):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CA28 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
  • 感光性樹脂組成物及び積層体
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-019708   出願人:旭化成エレクトロニクス株式会社
  • 光線遮蔽剤
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-130228   出願人:株式会社日本化学工業所
  • 特開平4-223470
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引用文献:
審査官引用 (1件)
  • PENTAX NEWS 2003

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