特許

J-GLOBAL ID：200903070589455863

ネガ型レジスト組成物

発明者： 末次 益実 ,  楠本 武宏 ,  竹山 尚幹
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-223780
公開番号（公開出願番号）：特開平10-069082
出願日： 1996年08月26日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 フェノール性水酸基が部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノール系樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、及び架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、解像度とプロファイルの向上を図る。【解決手段】 フェノール性水酸基が部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノール系樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤としてのN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステル、及び架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記ポリビニルフェノール系樹脂として、ゲル浸透クロマトグラフィーにより求めた分散度が1.01〜2の範囲にあるものを用いる。

請求項（抜粋）：

フェノール性水酸基が部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノール系樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤としてのN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステル、及び架橋剤を含有し、該ポリビニルフェノール系樹脂のゲル浸透クロマトグラフィーにより求めた分散度が1.01〜2の範囲にあることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 KGA ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 KGA ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-115531   出願人：住友化学工業株式会社
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-193724   出願人：日本ゼオン株式会社