フォトレジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-115531
公開番号（公開出願番号）：特開平7-295220
出願日： 1994年05月27日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)を光源として用いる露光領域において、感度及び解像度等の諸性能に優れたネガ型及びポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 (A) 部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノール及び部分的にアルキルエーテル化された水素添加ポリビニルフェノールからなる群から選択される少なくとも1種を含有するアルカリ可溶性樹脂、(B) N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤並びに(C) 架橋剤を含むネガ型フォトレジスト組成物、さらに、上記(A) のアルカリ可溶性樹脂、上記(B) の光酸発生剤並びに(D) 溶解阻止剤を含むポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A) 部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノール及び部分的にアルキルエーテル化された水素添加ポリビニルフェノールからなる群から選択される少なくとも1種を含有するアルカリ可溶性樹脂、(B) N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤、並びに、(C) 架橋剤を含むことを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 505 , C08K 5/42 KBU , G03F 7/004 503 , G03F 7/031 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

引用特許：

出願人引用 (11件)

特開平4-215662
特開平3-107160
特開平4-291259

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審査官引用 (10件)

特開平4-215662
特開平3-107160
特開平4-291259

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