特許
J-GLOBAL ID：200903070619109132

基板乾燥装置及び方法

発明者：
阿藤 浩司

阿藤 浩司 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-340406
公開番号（公開出願番号）：特開2000-164555
出願日： 1998年11月30日
公開日（公表日）： 2000年06月16日
要約：
【要約】【課題】 高い強度の装置構成を必要とすることなく、しかも、乱気流の発生を抑えて、基板を清浄なままで迅速に乾燥できる基板乾燥装置及び方法を提供する。【解決手段】 基板Wを保持する回転体14を回転させて基板に付着する液体を飛散させる基板回転手段18と、基板の上面及び/又は下面から該基板に向けて熱光線を照射する光源22a,22bと、前記基板回転手段の回転数を変化させる制御手段26とを有する。
請求項（抜粋）：
基板を保持する回転体を回転させて基板に付着する液体を飛散させる基板回転手段と、基板の上面及び/又は下面から該基板に向けて熱光線を照射する光源と、前記基板回転手段の回転数を変化させる制御手段とを有することを特徴とする基板乾燥装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  F26B 3/04
FI (3件)：
H01L 21/304 651 A ,  H01L 21/304 651 M ,  F26B 3/04
Fターム (11件)：
3L113AA03 ,  3L113AB02 ,  3L113AB08 ,  3L113AC10 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113CA15 ,  3L113CB06 ,  3L113CB40 ,  3L113DA10 ,  3L113DA24
引用特許：
審査官引用 (4件)
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