特許
J-GLOBAL ID：200903070629081597

荷電粒子線転写方法

発明者：
中筋 護

中筋 護 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-285524
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129544
出願日： 1995年11月02日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：
【要約】【課題】 分割転写方式でマスク上のパターンを基板上に転写する際に、偏向系の偏向歪、又は対物レンズ系の歪による転写歪を小さくする。【解決手段】 マスクMのパターンをX方向に複数の主視野に分割し、各主視野をそれぞれY方向に複数の副視野に分割し、副視野を通過した電子ビームEBを偏向器9,10,13,14を介して偏向すると共に、対物レンズ11,12で集束することによって、その副視野のパターンの縮小像をウエハW上の対応する副転写領域に転写する。各副視野の対物レンズ11,12による縮小像の歪を位置補正用の偏向器15で補正し、各副視野を通過した電子ビームに対する偏向器9,10,13,14の偏向歪を補正するように、偏向器に対する駆動信号と偏向量との関係を求めておく。
請求項（抜粋）：
マスクに形成された転写用パターンを複数個の主視野に分割し、該複数個の主視野をそれぞれ複数個の副視野に分割し、前記複数個の副視野毎に順次荷電粒子線を照射して前記各副視野のパターンを結像レンズ系を介して基板上に転写すると共に、前記マスクと前記基板とを同期して移動することにより、前記転写用パターンを前記基板上に転写する荷電粒子線転写方法において、前記基板上に転写されるパターンの歪を前記副視野毎に補正することを特徴とする荷電粒子線転写方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G21K 5/04
FI (5件)：
H01L 21/30 541 J ,  G21K 5/04 A ,  G21K 5/04 M ,  H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 D
引用特許：
審査官引用 (4件)
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