特許
J-GLOBAL ID:200903070809606094

硼素含有窒化アルミニウム薄膜および製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 上代 哲司 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-116524
公開番号(公開出願番号):特開平7-315998
出願日: 1994年05月30日
公開日(公表日): 1995年12月05日
要約:
【要約】BxAl1-xNy(0.001≦x≦0.7、0.85≦y≦1.05)なる組成のウルツ鉱型結晶構造を有する基板上に形成された薄膜であって、その膜厚が10nm以上30μm以下である硼素含有窒化アルミニウム薄膜。【目的】 窒化アルミニウムよりも高い硬度、広いバンドギャップ、大きな音速を有する基板上に形成された硼素含有窒化アルミニウム薄膜およびその製造方法を提供するもの。【構成】 BxAl1-xNy(0.001≦x≦0.7、0.85≦y≦1.05)なる組成を有する硼素含有窒化アルミニウム薄膜。
請求項(抜粋):
BxAl1-xNy(0.001≦x≦0.7、0.85≦y≦1.05)なる組成と、ウルツ鉱型結晶構造を有し、厚さ10nm以上30μm以下であり基板上に形成されてなることを特徴とする硼素含有窒化アルミニウム薄膜。
IPC (4件):
C30B 29/38 ,  C23C 16/34 ,  C30B 25/02 ,  C30B 25/06
引用特許:
審査官引用 (5件)
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