研磨装置、研磨装置用キャリアおよび研磨方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奥田誠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-010666
公開番号（公開出願番号）：特開2004-154924
出願日： 2003年01月20日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：

【課題】同時に多くの薄い基板を高い加工精度で研磨することのできる研磨装置を提供する。【解決手段】本発明の研磨装置10は、板状ワークを研磨するための研磨面11aを有し、第1の軸A1を中心として回転する第1の定盤11と、側面を有し、側面と垂直な断面の中心と異なる位置にある第1の軸A1を中心として回転する偏心ローラ14と、偏心ローラ14を挿入するための中心孔13cと、板状ワークを保持するための保持構造とを有し、保持構造により保持された板状ワークが第1の定盤11に接するよう配置されるキャリア13と、キャリアを偏心ローラ14を軸として回転させるキャリア回転機構15とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

板状ワークを研磨するための研磨面を有し、第1の軸を中心として回転する第1の定盤と、側面を有し、側面と垂直な断面の中心と異なる位置にある前記第1の軸を中心として回転する偏心ローラと、前記偏心ローラを挿入するための中心孔と、前記板状ワークを保持するための保持構造とを有し、前記保持構造により保持された前記板状ワークが前記第1の定盤に接するよう配置されるキャリアと、前記キャリアを前記偏心ローラを軸として回転させるキャリア回転機構と、を備える研磨装置。

IPC (2件)：

B24B37/04 , H01L21/304

FI (4件)：

B24B37/04 B , B24B37/04 C , H01L21/304 621A , H01L21/304 622G

Fターム (10件)：

3C058AA07 , 3C058AA11 , 3C058AA16 , 3C058AB01 , 3C058AB06 , 3C058AB09 , 3C058CB03 , 3C058DA06 , 3C058DA09 , 3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平4-258119
両面研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-113075 出願人：不二越機械工業株式会社
特開昭60-207764

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審査官引用 (10件)

特開昭62-176755
特開昭62-176755
特開平4-258119

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