特許
J-GLOBAL ID:200903070959952470
ジアリール-エニン類
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大多和 明敏 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-534756
公開番号(公開出願番号):特表2003-513063
出願日: 2000年11月01日
公開日(公表日): 2003年04月08日
要約:
【要約】本発明は式Iの化合物を提供するものである:【化3】式中、Ar1およびAr2は、以下の5個までの置換基で各々独立して置換されていてもよいアリール基から各々独立して選ばれる基であり、置換基は以下の基からなる群から選ばれるものである;アルキル、アルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルオキシ、アルカノイル、チオアルキル、アラルキル、アラルキルオキシ、アリールオキシアルキル、アリールオキシアルコキシ、シクロアルキル-置換アルキル、シクロアルキルオキシ-置換アルキル、シクロアルキル置換アルコキシ、シクロアルキルオキシ-置換アルコキシ、ヘテロシクロアルキル-置換アルキル、ヘテロシクロアルキルオキシ-置換アルキル、ヘテロシクロアルキル-置換アルコキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ-置換アルコキシ、チオアリール、アラルキルチオ、チオアリール-アルキル、アラルキルチオアルキル、ハロ、NO2、CF3、CN、OH、アルキレンジオキシ、SO2NRR’、NRR’及びCO2R(式中RおよびR’はHおよびアルキルからなる群から独立して選ばれるものである)及び上述のように置換されていてもよい第2のアリール基;R1はHおよびアルキルからなる群から選ばれるものである;R2はH、アルキルおよびベンジルからなる群から選ばれるものである;R3はCO2R、CONRR’、CONH(OH)、COSR、SO2NRR’、PO(OR)(OR’)およびテトラゾリルからなる群から選ばれるものであリ、RおよびR’はHおよびアルキルからなる群から独立して選ばれるものである;および上記化合物の塩、溶媒化合物もしくは水和物からなる群から選ばれるものである。
請求項(抜粋):
式Iの化合物:【化1】式中、Ar1およびAr2は、以下の5個までの置換基で各々独立して置換されていてもよいアリール基から各々独立して選ばれる基であり、置換基は以下の基からなる群から選ばれるものである;アルキル、アルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルオキシ、アルカノイル、チオアルキル、アラルキル、アラルキルオキシ、アリールオキシアルキル、アリールオキシアルコキシ、シクロアルキル-置換アルキル、シクロアルキルオキシ-置換アルキル、シクロアルキル置換アルコキシ、シクロアルキルオキシ-置換アルコキシ、ヘテロシクロアルキル-置換アルキル、ヘテロシクロアルキルオキシ-置換アルキル、ヘテロシクロアルキル-置換アルコキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ-置換アルコキシ、チオアリール、アラルキルチオ、チオアリール-アルキル、アラルキルチオアルキル、ハロ、NO2、CF3、CN、OH、アルキレンジオキシ、SO2NRR’、NRR’、CO2R(式中RおよびR’はHおよびアルキルからなる群から独立して選ばれるものである)および上述のように置換されていてもよい第2のアリール基;R1はHおよびアルキルからなる群から選ばれるものである;R2はH、アルキルおよびベンジルからなる群から選ばれるものである;R3はCO2R、CONRR’、CONH(OH)、COSR、SO2NRR’、PO(OR)(OR’)およびテトラゾリルからなる群から選ばれるものであリ、RおよびR’はHおよびアルキルからなる群から選ばれるものである; および上記化合物の塩、溶媒化合物もしくは水和物からなる群から選ばれるものである。
IPC (15件):
C07C229/14
, A61K 31/223
, A61K 31/36
, A61K 31/381
, A61K 31/40
, A61K 31/47
, A61K 31/695
, A61P 25/18
, A61P 25/28
, C07C323/32
, C07D207/335
, C07D215/12
, C07D307/52
, C07D317/58
, C07D333/20
FI (15件):
C07C229/14
, A61K 31/223
, A61K 31/36
, A61K 31/381
, A61K 31/40
, A61K 31/47
, A61K 31/695
, A61P 25/18
, A61P 25/28
, C07C323/32
, C07D207/335
, C07D215/12
, C07D307/52
, C07D317/58
, C07D333/20
Fターム (43件):
4C022CA07
, 4C023CA04
, 4C023CA07
, 4C031BA02
, 4C037HA23
, 4C069AC07
, 4C069BB08
, 4C069BB34
, 4C086AA01
, 4C086AA02
, 4C086AA03
, 4C086BA12
, 4C086BB02
, 4C086BC05
, 4C086BC28
, 4C086DA44
, 4C086MA01
, 4C086MA04
, 4C086NA14
, 4C086ZA15
, 4C086ZA16
, 4C086ZA18
, 4C206AA01
, 4C206AA02
, 4C206AA03
, 4C206FA51
, 4C206KA01
, 4C206MA01
, 4C206MA04
, 4C206NA14
, 4C206ZA15
, 4C206ZA16
, 4C206ZA18
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB21
, 4H006BJ50
, 4H006BM10
, 4H006BM30
, 4H006BM71
, 4H006BM72
, 4H006BM73
, 4H006BP30
引用特許: