特許
J-GLOBAL ID:200903070963619093
耐浸蝕性のネジを有したプラズマ反応室
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
,
,
代理人 (1件):
岡田 英彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-022552
公開番号(公開出願番号):特開2000-223475
出願日: 1999年01月29日
公開日(公表日): 2000年08月11日
要約:
【要約】【課題】 耐プラズマ浸蝕性且つ製造が容易なネジ、及びこのようなネジを有したプラズマ反応室を提供する。【解決手段】 汚染を制御した環境下で、浸蝕性のプラズマを利用してウェーハ処理を行うための装置はプラズマ処理されるウェーハを内部に収容し、プラズマ処理の間においてウェーハを外部から侵入する汚染物から隔離するための反応室と、ネジ付シャフトと拡径状のネジヘッドとを有する1つ以上の耐プラズマ浸蝕性のネジとを有し、ネジ付シャフトはプラズマに曝されないように前記反応室内に固定されるものであり、ネジヘッドはネジ付シャフトと同様な材料で一体で形成されており、かつエッジ数の少ない連続凹型形状を有して、電荷の蓄積が少なくなっており、耐プラズマ浸蝕性が与えられている。
請求項(抜粋):
汚染を制御した環境下で、浸蝕性のプラズマを利用してウェーハ処理を行うための装置であって、プラズマ処理されるウェーハを内部に収容し、プラズマ処理の間においてウェーハを外部から侵入する汚染物から隔離するための反応室と、ネジ付シャフトと拡径状のネジヘッドとを有する1つ以上の耐プラズマ浸蝕性のネジと、を有し、前記ネジ付シャフトはプラズマに曝されないように前記反応室内に固定されるものであり、前記ネジヘッドは前記ネジ付シャフトと同様な材料で一体で形成されており、かつエッジ数の少ない連続凹型形状を有して、電荷の蓄積が少なくなっており、耐プラズマ浸蝕性が与えられている装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 21/302 B
, H05H 1/46 A
Fターム (6件):
5F004BA04
, 5F004BB07
, 5F004BB11
, 5F004BB21
, 5F004BB23
, 5F004BB29
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
セラミックス製締着用ねじ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-296095
出願人:株式会社東芝
-
ネジキャップおよび処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-276934
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
ナット
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-117049
出願人:タケオ株式会社
全件表示
前のページに戻る