特許

J-GLOBAL ID：200903071009320571

ガスハイドレート形成工程を含む混合ガスの組成制御方法及び濃縮方法

発明者： 内田 努 ,  海老沼 孝郎 ,  成田 英夫 ,  長尾 二郎 ,  竹谷 敏
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 池浦 敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-048983
公開番号（公開出願番号）：特開2002-249790
出願日： 2001年02月23日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】 ガスハイドレートの形成に伴う気相および固相ハイドレート中の組成の時間変化を利用して、混合ガスの濃縮や組成制御を行う方法を提供する。【解決手段】 少なくとも2種のハイドレート形成性ガスを含む混合ガスの濃縮方法において、(i)該混合ガスを、そのハイドレートが形成される条件下で水と反応させて固体状のガスハイドレートを形成させるガスハイドレート形成工程と、(ii)該生成したガスハイドレートを該混合ガスから分離するガスハイドレート分離工程と、(iii)該分離されたガスハイドレートを分解ガス化させるガス化工程、とからなり、該ガス化工程で得られた混合ガスを用いて、前記ガスハイドレート形成工程(i)、ガスハイドレート分離工程(ii)及びガス化工程(iii)からなる一連の工程を繰り返し行うことを特徴とする混合ガスの濃縮方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも2種のハイドレート形成性ガスを含む混合ガスの組成を制御する方法において、該混合ガスを、そのハイドレートが形成される条件下で水と反応させて該混合ガスのハイドレートを形成させることからなり、該反応時間により、該混合ガスの組成を制御することを特徴とする混合ガスの組成制御方法。

IPC (2件)：

C10L 3/10 ,  B01J 19/00

FI (2件)：

B01J 19/00 A ,  C10L 3/00 K

Fターム (9件)：

4G075AA03 ,  4G075AA61 ,  4G075BB01 ,  4G075BD13 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075EA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EC11