特許
J-GLOBAL ID:200903071341508991

減速管

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川瀬 茂樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-022117
公開番号(公開出願番号):特開平7-211497
出願日: 1994年01月21日
公開日(公表日): 1995年08月11日
要約:
【要約】【目的】 イオン源で発生したイオンビ-ムは加速して、高速ビ-ムとして輸送し、減速管で減速してタ-ゲットに照射する。低エネルギ-のイオンビ-ムをタ-ゲットに当てようとする場合は減速管でイオンビ-ムを強く減速しなければならない。すると空間電荷効果のために、ビ-ムが強く発散する。発散を押さえ所望のビ-ムプルフィルを得ることのできる減速管を与えることが目的である。【構成】 初めに減速、ついで加速、最後に減速というように、減速、加速、減速の三段階のエネルギ-の調整を行なう。初めの減速は、最終ビ-ムエネルギ-の数十倍の程度とする。このときはビ-ム形状が乱れない。加速でビ-ムを収束させる。パラメ-タが二つあってビ-ムの形状を制御できる。
請求項(抜粋):
高速で入射したイオンビ-ムを低速にしてタ-ゲットに照射するための減速管であって、負の高電位電極と、これより絶対値の小さい負の電圧を印加した減速電極と、減速電極よりも絶対値の大きい負電圧を印加したサプレス電極とをこの順に含み、減速電極により初めにビ-ムを減速し、ついでサプレス電極により加速し、さらに接地されたタ-ゲットにより減速するようにしたことを特徴とする減速管。
IPC (6件):
H05H 7/00 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265 ,  H05H 5/00
引用特許:
審査官引用 (11件)
  • 減速管
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-216436   出願人:日新電機株式会社
  • イオンビームデポジシヨン装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-308487   出願人:日本真空技術株式会社
  • 中性粒子ビーム照射装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-289178   出願人:西川雅弘
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