動的ウエハ応力処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大島陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-010257
公開番号（公開出願番号）：特開2008-177579
出願日： 2008年01月21日
公開日（公表日）： 2008年07月31日
要約：

【課題】光学的技法を使用してサンプルの応力等の特性を測定するための装置および技法の提供。【解決手段】サンプル110の上にあらかじめ決められたパターンの形態で光線の入射が可能で、これはウエハ表面に当たり、そして、前記パターンの反射が検出装置115によって検出される。反射の後のパターンの変化を表示する情報が、応力、そり、及び曲率のような1つ以上のサンプル特性及び/又は1つ以上のパターン特性を決定するのに使用することが可能である。プローブ・ビーム108は、単一波長のコヒーレント光でも、又は多重波長の光でも可能であり、パターンは、回折格子又はホログラムを介する光の透過によって発生することが可能である。光源120は、インコヒーレントでも、又は多重波長でも可能であり、パターンは、サンプル上のマスクの上に配置されたパターンの画像化と検出器でのパターンの再画像化によって発生させることが可能である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

サンプル特性測定装置であって、特性測定されるサンプルを位置付けるように構成されたサンプル・ホルダーと、前記サンプルの第1の領域に向かうように構成されたビーム・パターンを発生するように構成された光源と、前記サンプルからの反射ビーム・パターンを受信するように構成された検出装置とを含み、前記反射ビーム・サンプルが前記サンプルの前記第1の領域の1つ以上の表面特性の決定に使用されることを特徴とする装置。

IPC (2件)：

H01L 21/66 , G01N 21/956

FI (2件)：

H01L21/66 J , G01N21/956 A

Fターム (17件)：

2G051AA51 , 2G051AB10 , 2G051BB01 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CB06 , 2G051DA07 , 2G051DA08 , 2G051EA16 , 4M106AA01 , 4M106BA05 , 4M106CA38 , 4M106CA39 , 4M106CA47 , 4M106DB04 , 4M106DB08 , 4M106DJ20

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭54-102153
基板表面の走査方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-544607 出願人：サン-ゴバングラスフランス
特開昭63-044107

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