特許
J-GLOBAL ID：200903071562186620
制御雰囲気下で操作する熱処理エンクロージャを安全にする方法及びそれに用いるプラント
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-156293
公開番号（公開出願番号）：特開2002-003954
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：
【要約】【課題】 メタルストリップを急冷する方法において、水素濃度の低減された制御雰囲気下で熱処理エンクロージャを安全に操業する方法及びそれを実施するプラントを提供する。【解決手段】 ガス雰囲気下で操作する熱処理エンクロージャが、複数のガイドローラ(3)により上流チャンバ(2)から下流チャンバ(7)へ移動するメタルストリップ(1)を急速冷却するためのチャンバ(5)を含有し、前記ストリップ(1)が、少くとも一つの圧力バランシングダクト(6,8,10)及び種々のチャンバ間におかれた複数のガスロック(4a,4b)により、前記急速冷却エンクロージャ(5)内に閉じ込められ、チャンバ(2,5,7)間のガス雰囲気の圧力が、ダクト(6,8,10)により、前記ガスロック(4a,4b)中を流れるガスの流量を制御してバランスを保つように制御された雰囲気下で作動する熱処理エンクロージャを安全にする方法。
請求項（抜粋）：
ガス雰囲気下で操作する熱処理エンクロージャを安全にする方法であって、前記エンクロージャは、複数のガイドローラ(3)によって上流チャンバ(2)から下流チャンバ(7)へ移動するメタルストリップ(1)を急速に冷却するためのチャンバ(5)を含有し、前記ストリップ(1)が、少なくとも一つの圧力バランシングダクト(6,8,10)及び種々のチャンバ間におかれた複数のガスロック(4a,4b,16a,16b,18a,18b)により前記急冷エンクロージャ(5)内に閉じ込められ、また、チャンバ(2,5,7)間のガス雰囲気の圧力が、ダクト(6,8,10)により、前記ガスロック(4a,4b,16a,16b,18a,18b)を通って流れるガスの流速を制御することによってバランスさせることを特徴とする上記方法。
IPC (3件)：
C21D 9/56 101
, C21D 1/74
, C21D 9/573 101
C21D 9/56 101 B
, C21D 1/74 H
, C21D 9/573 101 Z
4K043AA01
, 4K043CB03
, 4K043DA05
, 4K043EA06
, 4K043FA08
, 4K043FA09
, 4K043FA13
, 4K043GA01
, 4K043GA02
, 4K043GA03
