特許
J-GLOBAL ID：200903071607601500

基板処理装置

発明者：
荻野 慎

荻野 慎 について

, 
鈴木 聡

鈴木 聡 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-201666
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031112
出願日： 1998年07月16日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：
【要約】【課題】 処理後の基板の処理ムラを抑える。【解決手段】 基板処理装置1は、エッチング処理チャンバー3と、搬送ローラ6と、基板搬送方向と交差する方向に延びる入口カーテン31と、基板搬送方向に沿った方向に延びるスリットカーテン32とを備える。搬送ローラ6は、基板Wをエッチング処理チャンバー3に対して搬出入する。入口液カーテン31及びスリットカーテン32は、ともにエッチング処理チャンバー3に搬入されてくる基板に対して薬液を層状に供給する。入口液カーテン31から供給される薬液の流れとスリットカーテン32から供給される薬液の流れとは、エッチング処理チャンバー3に搬入されてくる基板W上において交わる。
請求項（抜粋）：
内部に基板を収容し、処理液によって基板に処理を施す処理チャンバーと、前記処理チャンバーに基板を搬出入する搬送手段と、前記処理チャンバー内に設けられ、基板搬送方向と交差する方向に延び、前記処理チャンバーに搬入されてくる基板に対して処理液を供給する第1処理液供給手段と、前記処理チャンバー内に設けられ、基板搬送方向に沿った方向に延び、前記処理チャンバーに搬入されてくる基板に対して処理液を供給する第2処理液供給手段と、を備えた基板処理装置であって、前記処理チャンバーに搬入されてくる基板上において、前記第1処理液供給手段から供給される処理液の流れと前記第2処理液供給手段から供給される処理液の流れとが交わる、基板処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/306 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 648
FI (6件)：
H01L 21/306 J ,  B08B 3/02 C ,  B08B 3/08 Z ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 643 Z ,  H01L 21/304 648 A
Fターム (20件)：
2H096AA27 ,  2H096DA04 ,  2H096GA21 ,  2H096GA23 ,  2H096GA26 ,  3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201BB24 ,  3B201BB93 ,  3B201CC12 ,  5F043AA01 ,  5F043AA05 ,  5F043DD13 ,  5F043EE02 ,  5F043EE03 ,  5F043EE07 ,  5F043EE21 ,  5F043EE27 ,  5F043EE36 ,  5F043GG10
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-078972   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-078973   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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