特許
J-GLOBAL ID：200903071707188715

静電引力方式のインキ噴射装置及びその製造方法

発明者：
尹 容燮

尹 容燮 について

, 
高 ▲ヒー▼權

高 ▲ヒー▼權 について

, 
林 景鎭

林 景鎭 について


出願人/特許権者：
三星電子株式会社

三星電子株式会社 について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-295104
公開番号（公開出願番号）：特開2001-138516
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：
【要約】【課題】 メンブレインを別に製造せず駆動部製造時駆動部と共に製造することによって製造工程が単純で、かつ静電引力が効果よく発生されインキ吐出が円滑に行える静電引力方式インキ噴射装置及びこのようなインキ噴射装置の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る静電引力方式のインキ噴射装置は、外部のインキ供給源から供給されるインキが収まるインキチャンバ及び前記インキチャンバから外側に延びて外側に開口されたノズル孔を備えた基板と、前記基板上に積層されたメンブレインと、前記インキチャンバ内に収まった下部電極と、前記メンブレインの外側面に設けられた上部電極とを含む。
請求項（抜粋）：
静電引力方式のインキ噴射装置において、外部のインキ供給源から供給されるインキが収まるインキチャンバ及び前記インキチャンバから外側に延びて外側に開口されたノズル孔を備えた基板と、前記基板上に積層されたメンブレインと、前記インキチャンバ内に収まった下部電極と、前記メンブレインの外側面に設けられた上部電極と、を含み、前記上部電極及び前記下部電極間に電位差印加時発生する静電引力により前記インキチャンバの内側に変形される前記メンブレインにより前記インキチャンバ内のインキが加圧され前記ノズル孔を介して外側に噴射されることを特徴とする静電引力方式のインキ噴射装置。
IPC (3件)：
B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16
FI (2件)：
B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H
Fターム (13件)：
2C057AF51 ,  2C057AF93 ,  2C057AG54 ,  2C057AG69 ,  2C057AP02 ,  2C057AP11 ,  2C057AP27 ,  2C057AP33 ,  2C057AP54 ,  2C057AQ03 ,  2C057BA05 ,  2C057BA14 ,  2C057BA15
引用特許：
審査官引用 (23件)
  • 特開平3-293141
  • 特開平3-288649
  • 特開平3-293141
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM