特許
J-GLOBAL ID：200903071730556578
成膜装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (11件)：
前田 弘
, 竹内 宏
, 嶋田 高久
, 竹内 祐二
, 今江 克実
, 藤田 篤史
, 二宮 克也
, 原田 智雄
, 井関 勝守
, 関 啓
, 杉浦 靖也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-135918
公開番号（公開出願番号）：特開2009-280875
出願日： 2008年05月23日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：
【課題】SP2結合とSP3結合との比率を制御することが可能であり、構造が異なる炭素質膜の形成が容易な成膜装置を実現できるようにする。【解決手段】成膜装置は、成膜室11と、成膜室11内に設けられた第1の電極21と第2の電極22とを有するプラズマ発生部と、成膜室11の中に設けられ、成膜室11内を運動する中性粒子が感ずる電子エネルギー分布関数を変化させるエネルギー分布関数可変部とを備えている。エネルギー分布関数可変部は、第1の電極21と第2の電極22との間に配置され、グリッド電極23と、成膜室11内においてグリッド電極23を移動させる移動機構30とを有している。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基材の表面に炭素質膜を成膜する成膜装置であって、
成膜室と、
前記成膜室内にプラズマを発生するプラズマ発生部と、
前記成膜室の中に設けられ、前記成膜室内を運動する中性粒子が感ずる電子エネルギー分布関数を変化させるエネルギー分布関数可変部とを備え、
前記エネルギー分布関数可変部は、
グリッド電極と、
前記成膜室内において前記グリッド電極を移動させる移動機構とを有していることを特徴とする成膜装置。
IPC (6件)：
C23C 16/52
, C23C 16/26
, C23C 16/511
, C23C 16/507
, C23C 16/509
, H05H 1/46
C23C16/52
, C23C16/26
, C23C16/511
, C23C16/507
, C23C16/509
, H05H1/46 M
, H05H1/46 L
, H05H1/46 C
, H05H1/46 B
4K030FA02
, 4K030FA03
, 4K030FA04
, 4K030HA12
, 4K030JA02
, 4K030JA03
, 4K030KA19
, 4K030KA20
