特許
J-GLOBAL ID：200903071758606236

露光方法

発明者：
森 堅一郎

森 堅一郎 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-225127
公開番号（公開出願番号）：特開2004-071650
出願日： 2002年08月01日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】光利用効率の低下によってスループットを落とす事無く、露光転写したい所望のパターンの解像力を上げることができる露光方法を提供する。【解決手段】所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを照明して当該マスクを経た光を投影光学系を介して被露光体に投影し露光する露光方法において、前記補助パターンが解像されてしまう場合に、最良結像フォーカス位置からずれた位置で前記被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを照明して当該マスクを経た光を投影光学系を介して被露光体に投影し露光する露光方法において、 前記補助パターンが解像されてしまう場合に、最良結像フォーカス位置からずれた位置で前記被露光体を露光することを特徴とする露光方法。
IPC (1件)：
H01L21/027
FI (3件)：
H01L21/30 516A ,  H01L21/30 514A ,  H01L21/30 518
Fターム (8件)：
5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5F046BA05 ,  5F046CB05 ,  5F046CB10 ,  5F046CB17 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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