特許
J-GLOBAL ID：200903071764923162

ムラ欠陥検出方法及び装置

発明者：
小島 広一

小島 広一 について

, 
市川 裕也

市川 裕也 について

, 
村上 拓史

村上 拓史 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 木下 實三 ,  中山 寛二 ,  石崎 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-054474
公開番号（公開出願番号）：特開2006-242584
出願日： 2005年02月28日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】 ムラ欠陥を高精度に検出できるムラ欠陥検出方法及び装置を提供する。【課題手段】 ムラ欠陥検出方法は、撮像した画像の各画素に対してムラ成分強調フィルタをかけてムラ成分を強調するムラ成分強調処理工程と、前記ムラ成分強調処理工程で得られた各画素のムラ成分強調値に基づいてムラ欠陥を検出するムラ欠陥検出工程とを有する。ムラ成分強調処理工程は、対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された輝度比較画素の輝度値を対象画素の輝度値と比較し、対象画素よりも輝度値が大きい輝度比較画素の数が半数より多い場合には、それらの各輝度比較画素の輝度値におけるメディアン値と対象画素の輝度値との差分を計算して対象画素のムラ成分強調値とする。逆に、カウント数が半数以下の場合には、輝度値が小さい各輝度比較画素の輝度値におけるメディアン値と対象画素の輝度値との差分を計算して対象画素のムラ成分強調値とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
撮像した画像の各画素に対してムラ成分強調フィルタをかけてムラ成分を強調するムラ成分強調処理工程と、 前記ムラ成分強調処理工程で得られた各画素のムラ成分強調値に基づいてムラ欠陥を検出するムラ欠陥検出工程とを有し、 前記ムラ成分強調処理工程は、 撮像画像において選択された対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された各輝度比較画素の輝度値を対象画素の輝度値と比較し、 対象画素よりも輝度値が大きい輝度比較画素の数をカウントし、 カウントされた輝度比較画素の数が、輝度比較画素全体の数の半数より多い場合には、対象画素よりも輝度値が大きい各輝度比較画素の輝度値におけるメディアン値と対象画素の輝度値との差分を計算して対象画素のムラ成分強調値とし、 カウントされた輝度比較画素の数が、輝度比較画素全体の数の半数以下であった場合には、対象画素よりも輝度値が小さい各輝度比較画素の輝度値におけるメディアン値と対象画素の輝度値との差分を計算して対象画素のムラ成分強調値とするムラ成分強調フィルタを用いてムラ成分を強調し、 前記ムラ欠陥検出工程は、前記各画素のムラ成分強調値を所定の閾値と比較してムラ欠陥候補の画素を抽出してムラ欠陥を検出することを特徴とするムラ欠陥検出方法。
IPC (6件)：
G01N 21/956 ,  G01M 11/00 ,  G01N 21/88 ,  G02F 1/13 ,  G06T 1/00 ,  G06T 5/20
FI (6件)：
G01N21/956 Z ,  G01M11/00 T ,  G01N21/88 J ,  G02F1/13 101 ,  G06T1/00 305A ,  G06T5/20 A
Fターム (23件)：
2G051AA41 ,  2G051AB06 ,  2G051AB07 ,  2G051CA04 ,  2G051EA30 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2G051ED04 ,  2G051ED14 ,  2G086EE10 ,  2H088FA12 ,  2H088FA13 ,  2H088FA30 ,  5B057AA01 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CC02 ,  5B057CD05 ,  5B057CE06 ,  5B057DA03 ,  5B057DC32
引用特許：
出願人引用 (3件)

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