特許
J-GLOBAL ID：200903071822719414
レジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
正林 真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-037157
公開番号（公開出願番号）：特開2008-203364
出願日： 2007年02月16日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：
【課題】反射防止膜としての機能を有し、且つレジストとの良好なマッチング特性を有するレジスト下層膜を形成できるレジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いて形成されたレジスト下層膜を提供する。【解決手段】特定の繰り返し単位を有するシロキサンポリマー成分を含有するレジスト下層膜形成用組成物を用いてレジスト下層膜を形成することにより、反射防止膜としての機能を有し、且つレジストとの良好なマッチング特性を有するレジスト下層膜が得られる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)と(2)で表される繰り返し単位を有するシロキサンポリマー成分を含有することを特徴とするレジスト下層膜形成用組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/11 503
, G03F7/075 521
2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CB33
, 2H025CB55
, 2H025DA34
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA17
