特許
J-GLOBAL ID：200903071836568087
熱処理炉
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松川 克明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-177055
公開番号（公開出願番号）：特開2004-018967
出願日： 2002年06月18日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：
【課題】金属ストリップを連続加熱処理するのに使用する熱処理炉において、導入口から予備加熱帯に導かれた金属ストリップの表面が酸化されるのを防止すると共に、加熱帯内の水素ガスを含む還元ガスが予備加熱帯を通して導入口から外部に漏れ出すのを防止する。【解決手段】金属ストリップ1を連続加熱処理する熱処理炉において、導入口10から導かれた金属ストリップを不活性ガス雰囲気中において間接加熱する予備加熱帯11と、この予備加熱帯において予備加熱された金属ストリップを水素ガスを含む還元ガス雰囲気中において間接加熱する加熱帯17とを連続して設け、上記の予備加熱帯の内圧よりも加熱帯の内圧を高くすると共に、予備加熱帯と加熱帯との間に加熱帯内の還元ガスが予備加熱帯内に流出するのを抑制する抑制手段18を設けた。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
金属ストリップを連続加熱処理する熱処理炉において、導入口から導かれた金属ストリップを不活性ガス雰囲気中において間接加熱する予備加熱帯と、この予備加熱帯において予備加熱された金属ストリップを水素ガスを含む還元ガス雰囲気中において間接加熱する加熱帯とを連続して設け、上記の予備加熱帯の内圧よりも加熱帯の内圧を高くすると共に、予備加熱帯と加熱帯との間に加熱帯内の還元ガスが予備加熱帯内に流出するのを抑制する抑制手段を設けたことを特徴とする熱処理炉。
IPC (3件)：
C21D9/56
, C21D1/74
, F27D7/06
C21D9/56 101J
, C21D1/74 M
, F27D7/06 B
4K043AA01
, 4K043EA06
, 4K043FA08
, 4K043FA09
, 4K043GA02
, 4K043GA05
, 4K043HA04
, 4K043HA07
, 4K063AA05
, 4K063BA02
, 4K063BA03
, 4K063CA01
, 4K063CA02
, 4K063DA05
, 4K063DA07
, 4K063DA22
, 4K063EA06
, 4K063GA31
