基板処理システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-175949
公開番号（公開出願番号）：特開2001-006999
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】基板の供給が停滞した際の空き時間を有効活用して生産性の向上を図る。【解決手段】基板Pに第1の処理を行う第1装置2と、基板Pに第2の処理を行う第2装置3とを備えた基板処理システム1において、第1装置と第2装置との一方の装置2が待機している待機時間情報を第1装置と第2装置との他方の装置3に通信する通信手段19を備えた。

請求項（抜粋）：

基板に第1の処理を行う第1装置と、前記基板に第2の処理を行う第2装置とを備えた基板処理システムにおいて、前記第1装置と前記第2装置との一方の装置が待機している待機時間情報を前記第1装置と前記第2装置との他方の装置に通信する通信手段を備えたことを特徴とする基板処理システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 502 G , G03F 7/30 501

Fターム (7件)：

2H096AA25 , 2H096CA20 , 5F046AA17 , 5F046AA28 , 5F046DA30 , 5F046DD06 , 5F046JA22

引用特許：

審査官引用 (5件)

複数装置より構成されるインライン工程システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-083403 出願人：株式会社ニコン
露光量調整方法及び走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-260344 出願人：株式会社ニコン
特開平3-225812

全件表示

前のページに戻る