特許
J-GLOBAL ID：200903072046441024

基板方向検出方法および描画システム

発明者：
猪俣 俊徳

猪俣 俊徳 について


出願人/特許権者：
ペンタックス株式会社

ペンタックス株式会社 について


代理人 (2件)： 松浦 孝 ,  小倉 洋樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-177603
公開番号（公開出願番号）：特開2005-010702
出願日： 2003年06月23日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：
【課題】基板の表裏および向きを容易に検出する。【解決手段】基板Sに所定径の第1基準マークP1、第3基準マークP3および第4基準マークP4とこれら基準マークP1、P3、P4より大きい径の第2基準マークP2とを形成する。描画装置10の描画テーブル12に基板Sを固定し、CCDカメラ22、24を用いて第1〜第4基準マークP1〜P4の相対位置を測定する。測定された第2基準マークP2の相対位置に基づいて、基板Sの表裏および向きを検出する。基板Sの表裏および向きが適正な場合には、第1〜第4基準マークP1〜P4の相対位置に基づいて基板Sに対する回路パターンの描画位置を調整し、光学ユニット18によって基板Sに回路パターンを描画する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
描画テーブルに載置された基板に所定パターンを描画する前に、前記所定パターンの位置決めのために前記基板に形成された4個の基準マークの前記描画テーブルに対する相対位置を検出し、検出された4個の基準マークに含まれる寸法または形状の異なる1個の基準マークの相対位置に基づいて、前記描画テーブルに対する前記基板の表裏および向きを検出することを特徴とする基板方向検出方法。
IPC (3件)：
G03F9/00 ,  G03F7/207 ,  H05K3/00
FI (3件)：
G03F9/00 Z ,  G03F7/207 Z ,  H05K3/00 P
Fターム (5件)：
2H097KA03 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097KA23 ,  2H097LA09
引用特許：
審査官引用 (4件)
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