特許

J-GLOBAL ID：200903072083365770

イオン注入装置

発明者： 杉村 伸一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-237972
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082268
出願日： 1995年09月18日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【課題】 設備コストの大幅な上昇や装置サイズの増大といった不具合を招くことなく、試料に対して所望のイオンのみを注入することができるイオン注入装置を提供する。【解決手段】 イオン生成室から引き出されたイオンビームを質量分析部2にて偏向させ、これによって選別された目的不純物のイオンを試料に注入するイオン注入装置である。質量分析部2は、扇形のビーム通路を形成する筒型本体7を有しており、その筒型本体7の少なくともビーム出口側7cの内周面がスパッタ防止のための保護壁8a,8bによって全面保護されている。

請求項（抜粋）：

イオン生成室から引き出されたイオンビームを質量分析部にて偏向させ、これによって選別された目的不純物のイオンを試料に注入するイオン注入装置において、前記質量分析部は、扇形のビーム通路を形成する筒型本体を有するとともに、その筒型本体の少なくともビーム出口側の内周面がスパッタ防止のための保護壁によって全面保護されていることを特徴とするイオン注入装置。

IPC (4件)：

H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/05 ,  H01L 21/265

FI (4件)：

H01J 37/317 Z ,  C23C 14/48 Z ,  H01J 37/05 ,  H01L 21/265 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-128372   出願人：ソニー株式会社
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-081638   出願人：日本真空技術株式会社