セラミック系薄膜形成用霧化器及びそれを用いた薄膜製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小林良平 , 竹内尚恒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-061175
公開番号（公開出願番号）：特開2004-267893
出願日： 2003年03月07日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】平均粒径0.5μm以下で、かつ、1μm以上の大きな粒子を含まないミストを製造可能なセラミック系薄膜形成用霧化器、及びその霧化器を用いた薄膜製造装置による薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】霧化器10に、原料液を霧化するための第1超音波振動子25a〜25cと、それにより霧化された原料ミストを通過させるための、所定の容積を有する選別室22とを設け、その選別室22に第2超音波振動子を備える振動体26を設ける。液体原料はまず第1超音波振動子によりミスト化され、選別室22において振動体26の働きにより微細化されるとともに、選別室22〜24を通過する間に、その内の粒径の大きい粒子が徐々に沈降してゆく。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

a)原料液を霧化するための第1超音波振動子と、 b)第1超音波振動子で霧化された原料ミストを通過させるための、所定の容積を有する選別室と、 c)該選別室に設けられた第2超音波振動子を備える振動体と、を備えることを特徴とするセラミック系薄膜形成用霧化器。

IPC (4件)：

B05B17/06 , B05B7/26 , B05D3/02 , B05D7/24

FI (4件)：

B05B17/06 , B05B7/26 , B05D3/02 B , B05D7/24 302A

Fターム (30件)：

4D074AA01 , 4D074BB06 , 4D074CC02 , 4D074CC33 , 4D074CC37 , 4D074DD02 , 4D074DD05 , 4D074DD09 , 4D075AA02 , 4D075AA83 , 4D075BB13Y , 4D075BB23Y , 4D075CA48 , 4D075DA06 , 4D075DB14 , 4D075DC19 , 4D075DC21 , 4D075EA06 , 4D075EA10 , 4D075EB05 , 4F033QA01 , 4F033QB02Y , 4F033QB03X , 4F033QB13Y , 4F033QB17 , 4F033QC02 , 4F033QD11 , 4F033QD18 , 4F033QE05 , 4F033QF11X

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-095479
表面上に制御された粒子蒸着を行う方法及び装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-512680 出願人：エムエスピー・コーポレーション
超音波塗布ヘッド及びそれを用いた塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-268171 出願人：凸版印刷株式会社

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