特許

J-GLOBAL ID：200903072112284504

レーザビームから鮮鋭な照射線を生成する光学装置

発明者： ベルトルト・ブルクハルト ,  ハンス-ユルゲン・カーレルト
出願人/特許権者： ミクロラス・レーザーシステム・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
代理人 (1件)： 奥山 尚男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-153452
公開番号（公開出願番号）：特開平8-327942
出願日： 1996年05月24日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：

【要約】【課題】 高いアスペクト比と、可及的に均質な線内エネルギー分布と、照射線の高いエッジ鮮明度と、大きい視野深さを有する照射線を生成する光学装置を提供する。【解決手段】 高出力のレーザビーム12から鮮鋭な照射線Bを照射面40に発生させる光学装置である。鮮鋭な照射線Bは長軸Al と短軸Asを有している。この光学装置は、長軸Al と短軸Asの方向にレーザビーム12を独立して結像・均質化させる結像光学システムおよび均質化光学システム(16、18、20、22、24、26、30、32)をアナモルフィックに配置することを特徴とする。短軸Asの方向にレーザビームを結像および均質化させるためには、スリットが均質に照射され、そのスリットが縮小光学系によって照射面に結像される。

請求項（抜粋）：

エキシマレーザのような高出力レーザ(10)から放射されたレーザビーム(12)の長軸及び短軸(Al 、As)を有する鮮鋭な照射線を、前記レーザビーム(12)の結像と均質化を前記長軸及び短軸(Al 、As)の方向に対して独立して行えるように結像・均質化光学システム(16、18、20、22、24、26、30、32)をアナモルフィックに配置することによって、照射面(40)に発生させる光学装置において、スリット(26)は均質に照射され、また、前記スリット(26)はレーザビームの長軸及び短軸(Al、As)の方向にレーザビームを結像・均質化させる縮小光学系(32)によって前記照射面(40)に結像されることを特徴とする光学装置。

IPC (3件)：

G02B 27/09 ,  B23K 26/06 ,  G02B 13/22

FI (3件)：

G02B 27/00 E ,  B23K 26/06 E ,  G02B 13/22

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-215390
  
• 照明光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-019098   出願人：株式会社ニコン
• CO2レーザ加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-176455   出願人：松下電器産業株式会社
• エキシマレーザ加工機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-033084   出願人：松下電器産業株式会社