リソグラフィ装置、クリーニング・システム、及びリソグラフィ装置の部品から、その場で汚染物を取り除くクリーニング方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 岩本行夫 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-318812
公開番号（公開出願番号）：特開2006-108696
出願日： 2005年10月04日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：

【課題】リソグラフィ装置、クリーニング・システム、及びリソグラフィ装置の部品から、その場で汚染物を取り除くクリーニング方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィ装置が開示される。装置は、リソグラフィ装置内の部品をその場でクリーニングするためのクリーニング・システムを含む。クリーニング・システムは、クリーニングすべき部品上の所定の位置の隣接部に、クリーニング環境を提供するように構成される。システムはまた、所定の位置に存在する汚染物のタイプには実質的に無関係に、前記クリーニング環境を提供するように構成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放射ビームを調整するための照明システムと、放射ビームにその断面でパターンを与えるように構成されたパターン形成デバイスを支持するための支持構造と、基板を支持するための基板テーブルと、前記基板の標的部分に、前記パターン形成された放射ビームを投影するための投影システムと、リソグラフィ装置内の部品をその場でクリーニングするためのクリーニング・システムであって、クリーニングすべき部品上の所定の位置の隣接部にクリーニング環境を提供するように構成され、さらに、前記所定の位置に存在する、汚染物のタイプには実質的に無関係に、前記クリーニング環境を提供するように構成されるクリーニング・システムとを含むリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 514E , H01L21/30 503G , G03F7/20 521

Fターム (2件)：

5F046AA17 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (4件)

露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-192455 出願人：松下電器産業株式会社
リソグラフィ装置、装置の洗浄法、デバイスの製造方法、およびその方法により製造されるデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-006738 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
露光装置のクリーニング方法および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-012187 出願人：株式会社半導体先端テクノロジーズ

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