リソグラフィ装置、装置の洗浄法、デバイスの製造方法、およびその方法により製造されるデバイス

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-006738
公開番号（公開出願番号）：特開2003-224067
出願日： 2003年01月15日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィ装置の構成部品を元の位置で洗浄するための方法および装置を提供する。【解決手段】低圧環境において、表面に極めて接近したツール先端と当該表面との間に電圧を印加することにより、当該表面の汚染物質をツールに吸引および付着させるとともに、レーザを使用して、リソグラフィ投影装置の各部品を元の位置で洗浄する。

請求項（抜粋）：

- 放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、- 所望するパターンに従い投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造体と、- 基板を保持する基板テーブルと、- パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムとから成り、- リソグラフィ装置の自体内で部品を洗浄するクリーナ装置を有し、前記クリーナ装置は、- 電磁場により前記洗浄対象部品の表面から汚染物質を遊離させる汚染物質遊離手段と、- 遊離した汚染物質を前記装置から除去する汚染物質除去手段とから成ることを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/30 514 E

Fターム (3件)：

5F046AA17 , 5F046CC01 , 5F046CC02

引用特許：

審査官引用 (16件)

クリーニング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-248211 出願人：株式会社クボタ
微粒子除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-279698 出願人：株式会社ニコン
レーザトラツプ集塵装置及び集塵方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-263615 出願人：株式会社ニコン

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