特許
J-GLOBAL ID:200903072158458272

単層カーボンナノチューブの製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  村山 靖彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-208999
公開番号(公開出願番号):特開2006-027948
出願日: 2004年07月15日
公開日(公表日): 2006年02月02日
要約:
【課題】 単層カーボンナノチューブ6の合成に用いられる触媒金属の作製の手間を軽減し、効率的、かつ安価に単層カーボンナノチューブ6を合成する製法を提供する。また、単層カーボンナノチューブ6中に触媒金属粒子が含まれず、構造欠陥が少なく、高純度で精製処理が不要な単層カーボンナノチューブ6を合成する製法を提供する。さらに、炭素源として安価な一酸化炭素を用いるとともに、反応条件が低温、低圧である製法を提供する。【解決手段】 炭素含有ガスを触媒金属が担持された支持体2上に流し、気相成長法により支持体2上に単層カーボンナノチューブ6を成長させ、得られた単層カーボンナノチューブ6を回収した後、この支持体2をそのまま再使用して、この支持体2上に単層カーボンナノチューブ6を成長させる。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
炭素含有ガスを触媒金属が担持された支持体上に流し、気相成長法により支持体上に単層カーボンナノチューブを成長させ、得られた単層カーボンナノチューブを回収した後、この支持体をそのまま再使用して、この支持体上に単層カーボンナノチューブを成長させることを特徴とする単層カーボンナノチューブの製法。
IPC (1件):
C01B 31/02
FI (1件):
C01B31/02 101F
Fターム (11件):
4G146AA11 ,  4G146AC03B ,  4G146AC16B ,  4G146BA08 ,  4G146BC08 ,  4G146BC25 ,  4G146BC33B ,  4G146BC42 ,  4G146CA20 ,  4G146DA30 ,  4G146DA45
引用特許:
審査官引用 (4件)
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