特許
J-GLOBAL ID：200903072162514977
ナノギャップ電極の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
三好 秀和
, 勝 治人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-073409
公開番号（公開出願番号）：特開2008-235596
出願日： 2007年03月20日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：
【課題】金属細線の絶縁破壊を防止することを第1の課題とし、高い再現性でギャップ電極を製造することを第2の課題とする。【解決手段】直流電圧VDCを発生させ、エレクトロマイグレーションを引き起こすパルス電圧Vpを所定の間隔で発生させ、直流電圧VDCとパルス電圧Vpとを重畳した電圧を金属細線14に印加する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
エレクトロマイグレーションを利用したナノギャップ電極の製造方法であって、
直流電圧を発生させ、該直流電圧を電極に印加する第1の工程と、
パルス電圧を所定の間隔で前記電極に更に印加する第2の工程と、
を有するナノギャップ電極の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
引用文献：
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