特許
J-GLOBAL ID：200903072183609943

試料評価方法、評価用基板及び評価用基板形成方法

発明者：
田中 美知

田中 美知 について


出願人/特許権者：
TDK株式会社

TDK株式会社 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  阿部 豊隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-435208
公開番号（公開出願番号）：特開2005-195353
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
【課題】 格子面間隔を精度よく計測しつつ像観察及び元素分析をすることが可能な試料評価方法、その試料評価方法に用いられる評価用基板、及び素の評価用基板形成方法を提供すること。【解決手段】 評価すべき被評価試料10と標準試料12とが接合された接合体14Bに、接合体の側方から、被評価試料と標準試料とを照射スポット28内に含むように透過型電子顕微鏡の電子ビームE1を照射する。そして、接合体を透過・回折した電子ビームE2により形成される被評価試料及び標準試料の回折像を検出する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
透過型電子顕微鏡を用いて試料を評価する方法であって、 評価すべき被評価試料と標準試料とが接合された接合体に、前記接合体の側方から、前記被評価試料と前記標準試料とを照射スポット内に含むように電子ビームを照射する照射工程と、 前記接合体を透過・回折した電子ビームにより形成される前記被評価試料及び前記標準試料の回折像を検出する検出工程と を備えることを特徴とする試料評価方法。
IPC (2件)：
G01N23/207 ,  G01N23/04
FI (2件)：
G01N23/207 ,  G01N23/04
Fターム (15件)：
2G001AA03 ,  2G001BA11 ,  2G001BA18 ,  2G001CA03 ,  2G001DA09 ,  2G001FA02 ,  2G001GA01 ,  2G001GA13 ,  2G001HA13 ,  2G001KA08 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001RA04 ,  2G001RA10 ,  2G001RA20
引用特許：
審査官引用 (5件)
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