フォトマスク用ペリクル、ペリクルを備えたフォトマスク、フォトマスクを用いた露光方法、および半導体装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-337018
公開番号（公開出願番号）：特開2002-139826
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
要約：

【要約】【課題】本発明は露光光の短波長化に対応するためのフォトマスク用ペリクルに関し、梁あるいは柱でペリクル膜のたわみを防止することを目的とする。【解決手段】ガラスフォトマスク板5のパターン形成面にペリクル4を取り付ける。ペリクル4は、パターン形成面に固定されるペリクルフレーム3と、パターン形成面との間に所定の距離が確保されるように、ペリクルフレーム3に支持される透光性のペリクル膜1を備える。ペリクル膜1には、ペリクル膜1に比して延性或いは展性が小さく硬度の高い材料で構成された梁2を取り付ける。

請求項（抜粋）：

透光性フォトマスク板のパターン形成面に取り付けられるフォトマスク用ペリクルであって、前記パターン形成面に固定されるペリクルフレームと、前記パターン形成面との間に所定の距離が確保されるように、前記ペリクルフレームに支持される透光性のペリクル膜と、前記ペリクル膜のたわみを抑制するように当該ペリクル膜を支持するたわみ防止部材と、を備えることを特徴とするフォトマスク用ペリクル。

IPC (3件)：

G03F 1/14 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/14 J , G03F 1/14 K , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 P

Fターム (3件)：

2H095BC31 , 2H095BC33 , 2H095BC38

引用特許：

審査官引用 (5件)

ペリクル及びペリクル付露光用マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-330232 出願人：株式会社東芝
特開平2-158734
特開平2-158734

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