特許
J-GLOBAL ID：200903072220156628

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
岩戸 薫

岩戸 薫 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-284810
公開番号（公開出願番号）：特開2006-098740
出願日： 2004年09月29日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：
【課題】PEB温度依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】ラクトン構造を有する基を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により特定構造の酸を発生する化合物、及び溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)一般式(A1)で表されるラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により一般式(I)で表される酸を発生する化合物、及び (C)溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (17件)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (3件)

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