特許
J-GLOBAL ID：200903072294599882
光への暴露による潤滑
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
三枝 英二
, 斎藤 健治
, 中野 睦子
, 林 雅仁
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-526451
公開番号（公開出願番号）：特表2009-505084
出願日： 2006年08月18日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：
本発明は、2つの物体間の摩擦係数及び/又は接触力を位置依存的且つ/又は時間依存的に変更する方法(当該方法は、上記物体間の一方又は両方の接触面の放射線による照射を包含する)、2つの物体間の摩擦係数及び/又は接着力の位置依存的且つ/又は時間依存的な変更のための本発明による方法の使用、2つの物体を含むシステム(ここでは、上記2つの物体間の摩擦係数及び/又は接着力は、一時的に又は永続的に変化され得る)、並びに本発明によるシステム及び制御ユニットを含む、摩擦係数及び/又は接着力の位置依存的且つ/又は時間依存的な制御のための装置に関する。
請求項（抜粋）：
2つの物体間の摩擦係数及び/又は接着力が、適切な波長の照射により位置依存的且つ/又は時間依存的に変更され、このようにして、該2つの物体間の一方又は両方の接触面の特性、或いは該2つの物体間の潤滑剤が、一時的に又は永続的に変化されることを特徴とする方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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