ブランクマスク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-201651
公開番号（公開出願番号）：特開2001-033940
出願日： 2000年07月03日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】ブランクマスク及びこれを用いた位相シフトマスク製造方法を提供する。【解決手段】透明基板と、前記透明基板の表面に形成されたクロム膜からなる遮光膜と、前記遮光膜の表面に形成されたモリブデンシリコンオキシナイトライド膜からなる保護膜と、レジスト膜と、チャージング防止膜とが順次形成されてなるブランクマスク。および、このブランクマスクを利用した位相シフトマスク製造方法。

請求項（抜粋）：

透明基板と、前記透明基板の表面に形成された遮光膜と、前記遮光膜の表面に形成された保護膜とを具備することを特徴とするブランクマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A , G03F 1/08 G , G03F 1/14 E , H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (5件)

露光用マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-128666 出願人：株式会社東芝
特開昭63-173051
特開平4-246649

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