特許
J-GLOBAL ID：200903002339197839
露光用マスクとその製造方法及び製造装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-304186
公開番号（公開出願番号）：特開平7-104457
出願日： 1993年12月03日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【目的】 露光光の照射に伴う半透明膜の物性変動を防止することができ、パターン転写精度の向上に寄与し得る露光用のハーフトーン型位相シフトマスクを提供すること。【構成】 透明基板101上にSiNからなる半透明膜102を所望パターンに形成してなる露光用のハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、半透明膜102の露光波長における吸収帯に含まれる波長の光を基板101側から半透明膜102に照射することにより、基板101と半透明膜102との境界部分に、露光光の照射に伴う半透明膜102の物性変動を防止するための安定化層103を形成したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に所望パターンに形成された半透明膜と、前記透光性基板と半透明膜との境界部分に形成され、露光光の照射に伴う半透明膜の物性変動を防止するための安定化層とを具備してなることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
