特許
J-GLOBAL ID：200903072464797927
酸化亜鉛薄膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-083197
公開番号（公開出願番号）：特開2001-271167
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：
【要約】【課題】種々の基材の表面に、真空プロセスを用いることなく、大気圧雰囲気下において、短時間で所望な厚みの酸化亜鉛薄膜を成膜する方法を提供すること。【解決手段】通気孔が設けられたカソード電極、該カソード電極と一定の間隔を以って対向するアノード電極から構成される対向電極間に、前記通気孔から希ガスを供給しつつ、対向電極間に高周波電圧を印加することにより大気圧放電プラズマを発生させ、該大気圧放電プラズマ中に基材を晒すことにより基材表面を前処理し、しかる後、通気孔が設けられたカソード電極、該カソード電極と一定の間隔を以って対向する電極から構成される対向電極間に、前記通気孔から希ガスおよびガス化した酸化亜鉛薄膜形成用物質を供給しつつ、対向電極間に高周波電圧を印加することにより大気圧放電プラズマを発生させ、該大気圧放電プラズマ中に基材を晒すことにより基材表面に酸化亜鉛薄膜を成膜することを特徴とする酸化亜鉛薄膜の形成方法。
請求項（抜粋）：
通気孔が設けられたカソード電極、該カソード電極と一定の間隔を以って対向するアノード電極から構成される対向電極間に、前記通気孔から希ガスを供給しつつ、対向電極間に高周波電圧を印加することにより大気圧放電プラズマを発生させ、該大気圧放電プラズマ中に基材を晒すことにより基材表面を前処理し、しかる後、通気孔が設けられたカソード電極、該カソード電極と一定の間隔を以って対向する電極から構成される対向電極間に、前記通気孔から希ガスおよびガス化した酸化亜鉛薄膜形成用物質を供給しつつ、対向電極間に高周波電圧を印加することにより大気圧放電プラズマを発生させ、該大気圧放電プラズマ中に基材を晒すことにより基材表面に酸化亜鉛薄膜を成膜することを特徴とする酸化亜鉛薄膜の形成方法。
IPC (3件)：
C23C 16/40
, C23C 16/505
, H01L 21/205
C23C 16/40
, C23C 16/505
, H01L 21/205
4K030AA11
, 4K030BA47
, 4K030CA06
, 4K030FA01
, 4K030KA30
, 4K030LA04
, 5F045AA08
, 5F045AB22
, 5F045AC07
, 5F045AC16
, 5F045AC17
, 5F045AC19
, 5F045AE29
, 5F045AF07
, 5F045AF10
, 5F045BB07
, 5F045BB08
, 5F045CA13
, 5F045CB10
, 5F045DA65
, 5F045DP03
, 5F045EF02
, 5F045EH05
, 5F045EH12
