X線発生用ターゲット及びこれを用いたX線管

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-253817
公開番号（公開出願番号）：特開2000-082430
出願日： 1998年09月08日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】【課題】微小焦点径のX線を発しつつ、耐衝撃性の低下を防止し、冷却効果を向上させることのできるX線発生用ターゲット及びこれを用いたX線管を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、銅製ターゲット支持体16に設けられ、カソード15bから放射される電子ビームを受容してX線を発するターゲット17であって、支持体16に設けられ、銅より大きい熱伝導率の炭素層19、炭素層19上のレニウム層20、電子ビームを受容してX線を発するレニウム層20上のタングステン薄膜21を備える。この場合、薄膜21で電子ビームがX線に変換され、焦点径の小さいX線がターゲット17から放射される。また、電子ビームが炭素層19で吸収されて発生する熱が支持体16に速やかに伝えられる。更に、レニウム層20によりタングステンカーバイドの生成が防止される。

請求項（抜粋）：

銅からなるターゲット支持体に設けられ、カソードから放射される電子ビームを受容してX線を発するX線発生用ターゲットであって、前記ターゲット支持体に設けられ、銅より大きい熱伝導率を有する炭素質材料からなる炭素層と、前記炭素層上に設けられるレニウム層と、前記レニウム層上に設けられ、前記電子ビームを受容して前記X線を発するタングステン薄膜と、を備えることを特徴とするX線発生用ターゲット。

引用特許：

審査官引用 (8件)

X線発生用タ-ゲットとX線源とX線撮像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-336468 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-144045
特開平4-154033

全件表示

前のページに戻る