特許

J-GLOBAL ID：200903072685672240

光ディスクの製造方法

発明者： 飯田 哲哉 ,  樋口 隆信 ,  奥村 陽一
出願人/特許権者： パイオニア株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-234547
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083582
出願日： 1996年09月04日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】 現行の露光装置やフォトレジストを使用した場合にも記録密度を著しく向上させることができる光ディスクの製造方法を提供する。【解決手段】 光脱色性化合物及びバインダーを含有するコントラスト増強材料からなるコントラスト増強層を介してフォトレジスト膜を露光する。コントラスト増強材料は下記式(1)で表されるA値がA≧4の範囲にあり、コントラスト増強層の厚さXは下記式(3)の条件を満たす。式(1) :A=(a1 -a2 )m0 、式(2) :X≦(λ/NA2 )-Yここで、a1 は光脱色性化合物のモル吸光係数、a2 はバインダーのモル吸光係数、m0 は光脱色性化合物の最初の濃度、λは露光ビームの波長、NAはレンズの開口数、Yはフォトレジスト膜の厚さを表す。

請求項（抜粋）：

[A] (1)基板上にフォトレジスト膜を形成する工程、(2)フォトレジスト膜上に、光脱色性化合物及びバインダーを含有するコントラスト増強材料からなるコントラスト増強層を形成する工程、(3)前記フォトレジスト膜に前記コントラスト増強層を介して露光処理を行ってピットパターンを形成する工程、(4)前記コントラスト増強層を剥離する工程、(5)ピットパターンが形成されたフォトレジスト膜を現像処理してフォトレジスト原盤を作製する工程、(6)フォトレジスト原盤にメッキを行ってスタンパを作製する工程、及び(7)前記スタンパを用いた射出成形によりディスクを作製する工程を少なくとも含み、[B] コントラスト増強層を形成する前記工程において、前記コントラスト増強材料として、下記式(1)A=(a1 -a2 )m0 ...(1)[式中、a1 は光脱色性化合物のモル吸光係数を表し、a2 はバインダーのモル吸光係数を表し、m0 は光脱色性化合物の最初の濃度を表す。]で表されるA値がA≧4の範囲にあるコントラスト増強材料を使用すると共に、前記コントラスト増強層の厚さを、下記式(3)X≦(λ/NA2 )-Y ...(3)[式中、Xはコントラスト増強層の厚さ、λは露光ビームの波長、NAは露光ビームをフォトレジスト膜上に収束させる対物レンズの開口数、Yはフォトレジスト膜の厚さを表す。]の条件を満たす厚さとすることを特徴とする光ディスクの製造方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/095 501 ,  G03F 7/26 512

FI (3件)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/095 501 ,  G03F 7/26 512

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光ディスク用原盤の作製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-029372   出願人：株式会社日立製作所, 日立マクセル株式会社
• ピット形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-240208   出願人：日本電気株式会社
• 特開昭59-104642
  
• 特開昭61-179535