パターンを有する構造体の製造方法及び装置、モールドの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-230610
公開番号（公開出願番号）：特開2007-276441
出願日： 2006年08月28日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：

【課題】一旦形成されたパターンを変化させることができる新規なパターンを有する構造体の製造方法及び装置、モールドの製造方法を提供する。【解決手段】パターンを有する構造体の製造方法において、弾性変形し得る平板状被加工物を、第1の状態から面内方向に弾性変形させ、変形状態の前記平板状被加工物に、第1のパターンを形成し、弾性変形している前記平板状被加工物を前記第1の状態に近づけ又は前記第1の状態に戻すことによって、前記第1のパターンとは、サイズあるいは形状の少なくとも一方が異なる第2のパターンを形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

パターンを有する構造体の製造方法であって、弾性変形し得る被加工物を、第1の状態から面内方向に弾性変形させ、変形状態の前記被加工物に、第1のパターンを形成し、弾性変形している前記被加工物を前記第1の状態に近づけ又は前記第1の状態に戻すことによって、前記第1のパターンとは、サイズあるいは形状の少なくとも一方が異なる第2のパターンを形成することを特徴とするパターンを有する構造体の製造方法。

IPC (2件)：

B29C 59/02 , H01L 21/027

FI (2件)：

B29C59/02 Z , H01L21/30 502D

Fターム (15件)：

4F209AD08 , 4F209AF01 , 4F209AG01 , 4F209AG05 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PG04 , 4F209PH16 , 4F209PJ08 , 4F209PN06 , 4F209PW21 , 4F209PW26 , 5F046BA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-257519 出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (6件)

特開昭60-000929
特開平4-305431
特開昭63-283022

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