特許
J-GLOBAL ID：200903072909642104

六フッ化硫黄ガスの回収装置およびその回収方法

発明者：
染山 省三

染山 省三 について

, 
木村 育雄

木村 育雄 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について


代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-164641
公開番号（公開出願番号）：特開2000-351611
出願日： 1999年06月11日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：
【要約】【課題】 取扱いが容易で回収したSF6 ガスの純度低下が少なく、かつ使用済み吸着剤の発生量が少なく、その保管あるいは処分が容易なSF6 ガスの回収方法および回収装置を実現する。【解決手段】 SF6 ガス中に混在する不純物に応じて独立しかつ互に任意の組み合せで連結可能な複数の吸着ユニットを備え、吸着ユニットは装填した吸着剤を加熱し吸着剤が吸着した不純物を排出する吸着剤再生手段を備えた。
請求項（抜粋）：
密閉容器に封入した六フッ化硫黄ガスを液化して回収する六フッ化硫黄ガス回収装置において、前記六フッ化硫黄ガス中に混在する不純物に応じて独立しかつ互に任意の組み合せで連結可能な複数の吸着ユニットを備え、該吸着ユニットは装填した吸着剤を加熱し該吸着剤が吸着した前記不純物を排出する吸着剤再生手段を備えたことを特徴とする六フッ化硫黄ガスの回収装置。
IPC (3件)：
C01B 17/45 ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/14
FI (3件)：
C01B 17/45 G ,  B01D 53/04 F ,  B01D 53/14 A
Fターム (12件)：
4D012CA20 ,  4D012CB01 ,  4D012CD05 ,  4D012CH04 ,  4D012CJ03 ,  4D012CJ07 ,  4D020AA10 ,  4D020BC02 ,  4D020BC06 ,  4D020CA05 ,  4D020CC02 ,  4D020CD03
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • SF6ガス回収精製装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-052574   出願人：株式会社東芝
  • SF6ガス回収・精製処理装置及び方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-163715   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立エンジニアリングサービス, 昭和電工株式会社
  • 特公昭47-006205

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