特許
J-GLOBAL ID:200903073074512413

制御されたラジカル重合によるジチオカーバメートからのブロックポリマーの合成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-527572
公開番号(公開出願番号):特表2002-500251
出願日: 1998年12月23日
公開日(公表日): 2002年01月08日
要約:
【要約】この発明は、一般式(IA)又は(IB)のブロックポリマーの重合方法に関係し、該方法は、式CYY’(CW-CW’)a=CH2のエチレン性不飽和モノマー、一般式(IIA)又は(IIB)の前駆体化合物、ラジカル重合開始剤を接触させることにある。
請求項(抜粋):
下記の一般式(IA)又は(IB)のブロックポリマー:【化1】{式中、:- R1は下記を表し: ・適宜置換されたアルキル、アシル、アリール、アルケン又はアルキン基(i)、又は ・適宜置換された又は芳香族の、飽和の又は不飽和の炭素環(ii)、又は ・適宜置換された又は芳香族の、飽和の又は不飽和のヘテロ環(iii)、(ここに、これらの基及び環(i)、(ii)及び(iii)は、置換されたフェニル基、置換された芳香族基又は下記の基で置換されていてよい:アルコキシカルボニル又はアリールオキシカルボニル(-COOR)、カルボキシル(-COOH)、アシルオキシ(-O2CR)、カルバミル(-CONR2)、シアノ(-CN)、アルキルカルボニル、アルキルアリールカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、フタルイミド、マレイミド、スクシンイミド、アミジノ、グアニジノ、ヒドロキシル(-OH)、アミノ(-NR2)、ハロゲン、アリル、エポキシ、アルコキシ(-OR)、S-アルキル、S-アリール、オルガノシリル、親水性又はイオン性の特性を有する基、例えば、カルボン酸のアルカリ金属塩、スルホン酸のアルカリ金属塩、ポリアルキレンオキシド鎖(PEO、PPO)、カチオン性置換基(第4アンモニウム塩)、 Rは、アルキル基又はアリール基をあらわす)、- Zは、窒素原子を含む適宜置換された環であり、該Zは該窒素原子により式(IA)のC(=S)-S-基に結合され、該環の他の原子は、この窒素原子の電子密度に関して非局在化又は電子求引性効果を誘導し、- R2及びR3は、同じであるか又は異なって、下記を表し: ・適宜置換されたアルキル、アシル、アリール、アルケン又はアルキン基(i)、又は ・適宜置換された又は芳香族の、飽和の又は不飽和の炭素環(ii)、又は ・適宜置換された、飽和の又は不飽和のヘテロ環(iii)、(ここに、これらの基及び環(i)、(ii)及び(iii)は下記の基で置換されていてよい:・置換されたフェニル基又は置換された芳香族基、・次の基:アルコキシカルボニル又はアリールオキシカルボニル(-COOR)、カルボキシル(-COOH)、アシルオキシ(-O2CR)、カルバミル(-CONR2)、シアノ(-CN)、アルキルカルボニル、アルキルアリールカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、フタルイミド、マレイミド、スクシンイミド、アミジノ、グアニジノ、ヒドロキシル(-OH)、アミノ(-NR2)、ハロゲン、アリル、エポキシ、アルコキシ(-OR)、S-アルキル、S-アリール、・親水性又はイオン性の特性を有する基、例えば、カルボン酸のアルカリ金属塩、スルホン酸のアルカリ金属塩、ポリアルキレンオキシド鎖(PEO、PPO)、カチオン性置換基(第4アンモニウム塩)、 Rは、アルキル基又はアリール基をあらわす)、そして、少なくともR2又はR3に関しては、これらの基及び環(i)、(ii)及び(iii)は、R2及びR3が結合している窒素原子の電子密度に関して非局在化又は電子吸引性効果を誘導し、- V、V’、W及びW’は、同じであるか又は異なって、H、アルキル基又はハロゲンを表し、- X、X’、Y及びY’は、同じであるか又は異なって、H、ハロゲン又は、R’、OR’、OCOR’、NHCOH、OH、NH2、NHR’、N(R’)2、(R’)2N+O-、NHCOR’、CO2H、CO2R’、CN、CONH2、CONHR’又はCONR’2より選択する基を表し(ここに、R’は、アルキル、アリール、アルアルキル、アルカリル、アルケン又はオルガノシリル基より選択し、これらは、適宜フッ素化され、又、適宜、一つ以上のカルボキシル、エポキシ、ヒドロキシ、アルコキシ、アミノ、ハロゲン又はスルホン基で置換されている)、- a及びbは、同じであるか又は異なって、0又は1に等しく、- m及びnは、同じであるか又は異なって、1以上であり、何れかが1より大きい場合には、個々の反復ユニットは同じであるか又は異なる}の製造方法であって、下記のものを相互に接触させる、当該製造方法:- 下記式のエチレン性の不飽和モノマー: CYY’(=CW-CW’)a=CH2、- 下記の一般式(IIA)又は(IIB)の前駆体化合物:【化2】(式中、Z、X、X’、V、V’、R1、R2及びR3は、上記と同じ意味を有し、b及びnは、上記と同じ値を意味する)、- ラジカル重合開始剤。
IPC (2件):
C08F293/00 ,  C08F 2/38
FI (2件):
C08F293/00 ,  C08F 2/38
Fターム (23件):
4J011NA25 ,  4J011NB04 ,  4J026HA06 ,  4J026HA10 ,  4J026HA11 ,  4J026HA15 ,  4J026HA18 ,  4J026HA23 ,  4J026HA24 ,  4J026HA26 ,  4J026HA35 ,  4J026HA38 ,  4J026HA48 ,  4J026HB06 ,  4J026HB10 ,  4J026HB11 ,  4J026HB15 ,  4J026HB22 ,  4J026HB23 ,  4J026HB26 ,  4J026HB42 ,  4J026HB45 ,  4J026HE01
引用特許:
審査官引用 (8件)
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